Adquisición de un multisistema para depósito de capas dieléctricas (óxidos y nitruros) y oxidación (silicio)

El Instituto de Tecnología Nanofotónica (NTC) de la UPV plantea la adquisición de un equipo multisistema avanzado para el depósito de capas dieléctricas y oxidación, tecnologías clave para el desarrollo de nuevos dispositivos electrónicos y fotónicos en el proceso de fabricación de circuitos integrados. Este equipo mejora significativamente nuestras capacidades ya que dotaría al centro con una calidad en los procesos y materiales no disponibles actualmente en el centro. Este sistema también permitiría procesar desde muestras pequeñas hasta obleas de 8 pulgadas. Las aplicaciones y los procesos en los que este equipo se centrarán abarcan materiales y técnicas como PECVD SixNy/SiON/SiO2, Oxidación húmeda y seca de silicio, LPCVD Nitruro de silicio estequiométrico y low stress y LPCVD LTO (Low thermal oxide) que son partes fundamentales dentro del proceso de fabricación de microprocesadores y chips, esenciales para aplicaciones de fotónica integrada como la fabricación de láseres, moduladores y fotodetectores para sistemas de telecomunicaciones de alta velocidad, o la integración de circuitos avanzados para temas de espacio y defensa, entre otras. Por último, hay que destacar que se estima que este equipo dará servicio a más de 20 instituciones públicas y privadas. Disponer de un equipo de estas características facilitaría el acceso por parte de los grupos de investigación del instituto a proyectos de investigación competitivos que se ve dificultada en la actualidad por la falta de estos equipos. La infraestructura solicitada pondría las instalaciones del NTC en primer nivel tecnológico y a la par con centros punteros en fotónica y comunicaciones.