Priestorovo-selektívna depozícia pre projekt POO STEPHANIK

Objednávateľ požaduje Systém ATLANT 3D Nanofabricator Lite (ďalej len „Nanofabricator Lite“), ktorý bude slúžiť na realizáciu DALP selektívnej depozície materiálov s atomárnou presnosťou a na vývoj a testovanie nových mikro- a nanoštruktúr v rámci pokročilého výskumu materiálov, senzorov, fotonických prvkov a mikroelektronických súčiastok. Podstatou technológie Direct Atomic Layer Processing – DALP, je nanášanie materiálov s vertikálnou presnosťou na úrovni angströmov (sub-nm) a s laterálnym riadením v mikrometrovej škále. Uvedená technológia spája princípy depozície po atomárnych vrstvách (atomic layer deposition, ALD) s výhodami aditívnej výroby, čím umožňuje selektívne, programovateľné a priame nanášanie materiálov bez potreby litografie, maskovania alebo leptania. Technológia je založená na unikátnom patente s PCT číslom WO2020245230 - ATOMIC LAYER PROCESS PRINTER.